대표 재질
SiC (Silicon Carbide) / 포러스 세라믹
Ceramic Components
세라믹 가공품
정밀 가공 기술을 적용한 세라믹 완성 부품을 탐색합니다. 고객의 도면과 사양에 맞춰 다양한 형상과 크기로 제작 가능하며, 엄격한 품질 기준을 충족합니다.
Vacuum Chuck
진공척
SiC와 포러스 세라믹을 기반으로 균일 흡착, 고평탄도, 내마모, 내화학성이 요구되는 6INCH / 8INCH WAFER 공정에 대응합니다.
| 대표 재질 | SiC (Silicon Carbide) / 포러스 세라믹 |
|---|---|
| 표준 형태 | 6INCH / 8INCH WAFER |
| 주요 특성 | 균일 흡착, 고평탄도, 내마모, 내화학성 |
CERAMIC VACUUM CHUCK
진공척 제품 개요
반도체 웨이퍼 및 박막 소재를 안정적으로 흡착하기 위한 세라믹 기반 진공척입니다. 균일한 흡착 성능과 고평탄도, 내마모성을 바탕으로 반복 공정과 정밀 검사 환경에 대응합니다.
표준 형태
6INCH / 8INCH WAFER
주요 특성
균일 흡착, 고평탄도, 내마모, 내화학성
소재별 특징 설명 옵션
Material
SiC
고강도·고경도, 내열·내마모성 우수, 반복 공정에 강함
Material
포러스 세라믹
미세 기공을 통한 면 전체 균일 흡착, 박막·취성 소재 대응에 유리
Vacuum ChuckSiCPorous CeramicWafer